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OTEC(不推)拋光機CF Standard SeriesCF 1X50

產(chǎn)品介紹

非常容易操作

通過(guò)用戶(hù)友好的西門(mén)子觸摸屏控制面板可以輕松設置速度,處理時(shí)間,水/化合物濃度,漂洗周期和所有其他主要工藝參數,并可存儲75種不同的處理程序。

可靠

僅使用材料和組件,確保無(wú)故障運行和長(cháng)使用壽命。

非常具有成本效益

相對較低的資本投資和高成本節約潛力使CF系列物超所值。

完美的結果

去毛刺,平滑,研磨和拋光- 只需一臺機器即可完成整個(gè)應用范圍。

獨特的零間隙系統

用于非常精細工件的濕整理。旋轉盤(pán)和固定鼓之間的間隙可以減小到零。這使得能夠使用非常細的顆粒研磨介質(zhì),例如石英,并防止任何工件卡在間隙中。

CF系列盤(pán)式拋光機可用于任何需要在很短的時(shí)間內完成表面光潔度的應用,適用于各種工件,如切割,車(chē)削,銑削和沖壓工具,珠寶等。圓盤(pán)精加工機器采用模塊化設計,標準配備1-4個(gè)工藝桶。所有控件均可從正面進(jìn)行操作,并且布局清晰。


詳細參數

型號:CF 1X50

CF1x50帶手動(dòng)篩分裝置

設計

模塊化結構:適用于臺式機(max.18升),max.2個(gè)加工容器,對于固定式機器(從9升)到4個(gè)處理容器。

獨立控制

可以進(jìn)行干濕處理

可用容量:28升

工件尺寸:約120毫米長(cháng)

典型的工件 - 介質(zhì)比

去毛刺:1:3

精磨:1:6

拋光:1:12

化合物通常是含有表面活性劑的清潔劑,具有以下任務(wù):

防腐蝕

保持工件和磨料清潔

去除過(guò)程浪費

如果需要,創(chuàng )建明亮的表面

可能的介質(zhì):

大于1毫米的陶瓷介質(zhì)

塑料磨料

陶瓷,氧化鋯等拋光材料


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