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microworksX射線(xiàn)干涉儀Talint EDU

產(chǎn)品介紹

Talint EDU是X射線(xiàn)Talbot Lau干涉儀的一種巧妙簡(jiǎn)化形式,包括所有必要的硬件,以正確設置和微調干涉儀,并應用相位步進(jìn)程序,以獲得三種成像模式:吸收、相位對比度和暗場(chǎng)對比度。

硬件的設計使得,在按照我們的說(shuō)明組裝(預裝)套件后,莫爾條紋將很容易在您的探測器上看到。莫爾條紋圖案的進(jìn)一步微調可以通過(guò)使用G1和G2支架中的微米螺釘使光柵繞光軸進(jìn)行角旋轉,以直接的方式進(jìn)行。

性能特點(diǎn)

  • 由基板定義,基板是M6的試驗板,間距為25mm
  • 光柵是使用X射線(xiàn)LIGA技術(shù)制造的,該技術(shù)確保了高精度和高的高寬比(縱橫比)
  • 通過(guò)定位銷(xiāo)固定;對稱(chēng)設置
  • 兩個(gè)光柵都可以通過(guò)調節測微螺釘繞光軸旋轉
  • 包含控制器

技術(shù)參數

產(chǎn)地:德國

長(cháng)度:60厘米

寬度:15厘米

高度:20厘米

光柵開(kāi)放區域

G0:15毫米

G1:70毫米

G2:70毫米

干涉儀的微調:僅調整G1和G2繞光軸的旋轉角度

樣品放置:簡(jiǎn)單的旋轉臺,可在光軸內外擺動(dòng)樣品

相位步進(jìn):閉環(huán)壓電級。30nm分辨率

邊緣能見(jiàn)度:通常>15%

G0和G2的占空比:0.55

G0和G2的基板:400µm石墨

G1占空比:0.5

G1基板:200µm硅


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