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ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

產(chǎn)品介紹

用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個(gè)平臺,允許獨立聚焦和掃描兩個(gè)激光點(diǎn),用于集成電路的評估。雙點(diǎn)注射工藝的理想選擇,它提供了所有空間和時(shí)間的靈活性,可以通過(guò)背面分析電路

性能特點(diǎn)

集成電路評估雙激光站(均通過(guò)顯微鏡點(diǎn))

背面激光故障注入的理想選擇

具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸

兩個(gè)激光光斑都具有完全獨立的時(shí)間和空間調制

通過(guò)數百米的硅來(lái)觀(guān)察集成電路路徑上的激光點(diǎn)的照相機

高再現性和高分辨率激光光斑位移

包括三個(gè)阿爾法諾夫激光模塊

 

可選功能與配件

光學(xué)鏡頭技術(shù)

光電發(fā)射套件

熱激光刺激套件

通過(guò)CE認證的激光外殼完成自動(dòng)設置

高分辨率目標

技術(shù)參數

單模光纖激光器

 

PDM+/PDM+ HP

PDM4+ and PDM4+ HP

脈沖持續時(shí)間

1.5納秒到連續波

1.5納秒到連續波

峰值功率

高達3.2

高達10

波長(cháng)

980納米;1064牛米

980納米;1064牛米

重復率

從單發(fā)到250兆赫

從單發(fā)到250兆赫

命令接口

TTL/LVTTL /軟件& dlls

TTL/LVTTL /軟件& dlls

光束質(zhì)量

單模

單模

InGaAs 紅外相機

Captor

640x512 µm

動(dòng)態(tài)量程

140 dB

接口

USB(包含軟件)

電學(xué)

電壓

220 V/110 V

電流

16 A

 


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